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PHI X-tool 全自动扫描型微区探针

PHI X-tool是一款操作简单,同时具备高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS独有的扫描聚焦X-ray系统,可通过单色化石英晶体叫X-ray直接聚焦至20μm。和传统的XPS相比,不采用光阑进行选区,极大的提高了XPS在200μm以下空间尺度的灵敏度。同时,不需要增加磁透镜,即可得到卓越的灵敏度及优秀的信噪比,即使磁性样品,也可轻松应对。

卓越的操作性

  • PHI X-tool软件支持直观的触摸屏操作,所有XPS测定过程都可在触摸屏上完成。用户可以自由选择手动操作模式和自动操作模式(自动定性、定量、分析及完成报告),操作者无论是否具有丰富的XPS操作经验,均能轻松应对。

自动参数设定、自动完成报告

  • PHI X-tool具备自动对焦功能(Auto-Z),使分析位置处于X射线的焦平面上,得到zui优的分析条件。其可实现中和参数的自动匹配,无论样品的导电性如何,均可轻松应对。
  • 自动定性:实现谱峰自动识别
  • 自动定量:自动选定谱峰定量范围
  • 自动曲线拟合:可自动实现预定条件的曲线拟合
  • 自动生成实验报告

多方式样品观察

  • 在XPS分析中,样品观察,特别是微区定位至关重要。PHI X-tool可通过以下三种方式进行样品观察:a. 进样室高空间分辨率图像;b. 实时CCD成像;c. 二次电子像(SXI)。利用这几种方法观察样品,不论样品大小,表面形貌如何均可轻松确定测试位置。

详细的条件设定和直观的操作

  • 结合材料和目的,可详细设定分析的条件。通过内置元素周期表,可设定各光电子峰和俄歇峰。通过更改通过能、步长、积分时间设定窄谱扫描参数。对每个样品可设置习惯的文件名和样品名称。

快速化学成像

  • 采用扫描X射线和高灵敏度检测器及非扫描模式,可实现快速成像分析。每个点都可以直接调取全部的谱数据。化学态成像的空间分辨率、灵敏度、能量分辨率与仪器主指标一致。

采用PHI独有的先进硬件设计

  • 微聚焦扫描X-ray源;
  • 双束中和系统,低能离子束及低能电子束自动配合;
  • 浮动离子枪,离子加速电压条件范围可达0~5kV
  • Micro-Electronics 微电子, 电子封装
  • Polymer 高份子材料
  • Tribology 摩擦学
  • Magnetic 磁性材料, 硬盘, 蓝光光盘
  • Display Industries 显示工业
  • Graphene 石墨稀
  • Catalysis 催化剂
  • Energy related 能源产业
  • Glass 玻璃
  • Metal 金属
  • Ceramic 陶瓷
  • Semi-conductors 半导体
  • Bio-Medical 生医科学

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